7나노 반도체 삼성전자, 생산 시작

강동철 기자

입력 : 2018.10.19 03:14

TSMC와 격차 좁히기 위해 극자외선 노광 기술 도입

삼성전자가 17일(현지 시각) 미국 실리콘밸리 미주법인 사옥에서 열린 '삼성 테크 데이 2018' 행사에서 EUV(극자외선) 노광 기술을 이용한 7나노(1나노는 10억분의 1m)급 파운드리(위탁생산) 공정을 구축하고 반도체 생산을 시작했다고 밝혔다. 7나노 파운드리 공정개발은 대만 TSMC에 이어 두 번째이고 EUV를 적용한 것은 세계 최초다. 파운드리 사업은 반도체 설계회사나 스마트폰 제조사로부터 주문받은 반도체를 생산해주는 것으로 대만의 TSMC가 세계 1위다.

▲ 삼성전자가 경기도 화성에 건립 중인 EUV 전용 파운드리 공장 전경. /삼성전자

삼성이 도입한 EUV 공정은 기존 기술보다 반도체 생산 시간은 줄이고, 생산량은 늘릴 수 있는 기술이다. 기존 기술로는 7나노미터 수준의 미세 회로를 그리기 위해서는 여러 단계의 공정을 거쳐야 하지만 EUV 기술은 공정을 대폭 줄일 수 있다. 이를 통해 생산 기간을 단축하고 반도체 성능도 10나노 제품보다 20% 이상 키울 수 있는 것이다. 삼성전자 파운드리 전략마케팅팀 배영창 부사장은 "앞으로 모든 분야에 차세대 파운드리 기술을 적용시킬 것"이라고 말했다.

반도체 업계에서는 삼성이 향후 세계 1위인 대만 TSMC와의 격차를 얼마나 좁힐 수 있을지에 대해 관심을 집중하고 있다. TSMC는 지난 6월부터 7나노 파운드리 양산을 시작했다. TSMC는 7나노 공정 가동과 함께 미국 애플 아이폰에 들어가는 최신 반도체(A12), 차세대 반도체(A13)의 위탁생산 물량을 독점했다. 삼성은 EUV 기술 도입으로 TSMC의 독주를 막겠다는 전략이다.

한편 삼성전자는 이날 메모리(저장용) 반도체 신제품들도 대거 공개했다. 세계 최초로 공개한 256GB(기가바이트)급 서버용 D램은 기존 제품보다 데이터 저장 용량은 2배 늘리고, 전력 소비량은 30% 줄였다. 또 데이터 저장 공간을 100층 이상 쌓을 수 있는 6세대 낸드플래시 기술도 선보였다.



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